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光觸媒催化劑高剪切分散機

光觸媒催化劑高剪切分散機,我們的高剪切研磨分散設(shè)備就能夠很好的解決這一問題,GMSD2000研磨分散機是三級高剪切研磨分散機可以先對物料進行膠體研磨細化,然后再經(jīng)過分散盤對物料進行剪聚分散。我們也可以根據(jù)物料的粗細程度提供不同的分散盤。

  • 產(chǎn)品型號:GMSD2000-04
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-09-18
  • 訪  問  量:1232
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產(chǎn)品詳情

光觸媒催化劑高剪切分散機,光觸媒高剪切研磨分散機,二氧化鈦高剪切研磨分散機,二氧化鈦研磨分散機,二氧化鈦剪切分散機,二氧化鈦納米級分散機   

光觸媒是一種以納米級二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導(dǎo)體材料的總稱,它涂布于基材表面,在紫外光及可見光的作用下,產(chǎn)生強烈催化降解功能:能有效地降解空氣中有毒有害氣體;能有效殺滅多種細菌,并能將細菌或真菌釋放出的毒素分解及無害化處理;同時還具備除甲醛、除臭、抗污、凈化空氣等功能。

在所有的光觸媒材料中,納米二氧化鈦不僅具有很高的光催化活性且具有耐酸堿腐蝕、耐化學(xué)腐蝕、無毒等優(yōu)點,價格也適中,具有較高的性價比,因而市場上大多使用納米二氧化鈦做為主要原材料。

納米級材料都有一個特性那就是容易出現(xiàn)團聚現(xiàn)象,納米二氧化鈦材料也不例外。團聚是指原生的納米材料顆粒在設(shè)備、分離、處理及存放的過程中相互連接、由多個顆粒形成的較大的顆粒團簇的現(xiàn)象。由于團聚顆粒小,表面粒子比例大,表面積大,處于能量不穩(wěn)定狀態(tài),因而細微的顆粒都趨向于聚集在一起,很容易團聚,形成團聚狀的二次顆粒。

我們的高剪切研磨分散設(shè)備就能夠很好的解決這一問題,GMSD2000研磨分散機是三級高剪切研磨分散機可以先對物料進行膠體研磨細化,然后再經(jīng)過分散盤對物料進行剪聚分散。我們也可以根據(jù)物料的粗細程度提供不同的分散盤。

而且我們也有著豐富的經(jīng)驗,幫助北京的一家公司從小試到中式再到搭建產(chǎn)線。所以說我們的有把我做好客戶的要求。

 

型號

標(biāo)準(zhǔn)流量L/H

輸出轉(zhuǎn)速Rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度m/s

馬達功率KW

進口尺寸

出口尺寸

GMSD2000/4

300-1,000

18,000

51

4

DN25

DN15

GMSD2000/5

1,000-1,500

13,500

51

11

DN40

DN32

GMSD2000/10

3,000

9,300

51

22

DN50

DN50

GMSD2000/20

8,000

3,600

51

37

DN80

DN65

GMSD2000/30

20,000

3,600

51

75

DN150

DN125

GMSD2000/50

40,000

2,500

51

160

DN200

DN150

GMSD2000高剪切研磨分散機參數(shù)表

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

 2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

 3 參數(shù)內(nèi)的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。

 4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不同,正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn)。

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