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石墨烯研磨分散機(jī)

石墨烯研磨分散機(jī)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

  • 產(chǎn)品型號(hào):GMSD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-09-17
  • 訪  問  量:2243
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產(chǎn)品詳情

石墨烯研磨分散機(jī)產(chǎn)品簡(jiǎn)介

思峻機(jī)械研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

石墨烯(Graphene)是一種由碳原子以sp²雜化軌道組成六角型呈蜂巢晶格的二維碳納米材料。

石墨烯具有優(yōu)異的光學(xué)、電學(xué)、力學(xué)特性,在材料學(xué)、微納加工、能源、生物醫(yī)學(xué)和藥物傳遞等方面具有重要的應(yīng)用前景,被認(rèn)為是一種未來革命性的材料。 英國(guó)曼徹斯特大學(xué)物理學(xué)家安德烈·蓋姆和康斯坦丁·諾沃肖洛夫,用微機(jī)械剝離法成功從石墨中分離出石墨烯,因此共同獲得2010年諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)。

石墨烯常見的粉體生產(chǎn)的方法為機(jī)械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長(zhǎng)法,薄膜生產(chǎn)方法為化學(xué)氣相沉積法(CVD)。 2018年3月31日,中國(guó)首條全自動(dòng)量產(chǎn)石墨烯有機(jī)太陽能光電子器件生產(chǎn)線在山東菏澤啟動(dòng),該項(xiàng)目主要生產(chǎn)可在弱光下發(fā)電的石墨烯有機(jī)太陽能電池(下稱石墨烯OPV),破解了應(yīng)用局限、對(duì)角度敏感、不易造型這三大太陽能發(fā)電難題

 

由于石墨烯的特殊結(jié)構(gòu),采用砂磨機(jī)容易破壞片層結(jié)構(gòu)。所以目前大多數(shù)廠家都在使用我司高剪切研磨分散機(jī)進(jìn)行石墨烯漿料的處理,研磨分散機(jī)是將膠體磨(研磨機(jī))和分散機(jī)合二為一的設(shè)備。工作原理為定轉(zhuǎn)子高速運(yùn)轉(zhuǎn)產(chǎn)生強(qiáng)大的剪切力、離心力,對(duì)物料進(jìn)行剪切、剝離、分散、細(xì)化。所以特別適合石墨烯漿料的生產(chǎn),并且不容易破壞片層結(jié)構(gòu)。

 

 

石墨烯的研究與應(yīng)用開發(fā)持續(xù)升溫,石墨和石墨烯有關(guān)的材料廣泛應(yīng)用在電池電極材料、半導(dǎo)體器件、透明顯示屏、傳感器、電容器、晶體管等方面。鑒于石墨烯材料優(yōu)異的性能及其潛在的應(yīng)用價(jià)值,在化學(xué)、材料、物理、生物、環(huán)境、能源等眾多學(xué)科領(lǐng)域已取得了一系列重要進(jìn)展。 研究者們致力于在不同領(lǐng)域嘗試不同方法以求制備高質(zhì)量、大面積石墨烯材料。并通過對(duì)石墨烯制備工藝的不斷優(yōu)化和改進(jìn),降低石墨烯制備成本使其優(yōu)異的材料性能得到更廣泛的應(yīng)用,并逐步走向產(chǎn)業(yè)化。 

中國(guó)在石墨烯研究上也具有*的優(yōu)勢(shì),從生產(chǎn)角度看,作為石墨烯生產(chǎn)原料的石墨,在我國(guó)儲(chǔ)能豐富,價(jià)格低廉。正是看到了石墨烯的應(yīng)用前景,許多國(guó)家紛紛建立石墨烯相關(guān)技術(shù)研發(fā)中心,嘗試使用石墨烯商業(yè)化,進(jìn)而在工業(yè)、技術(shù)和電子相關(guān)領(lǐng)域獲得潛在的應(yīng)用。如歐盟委員會(huì)將石墨烯作為“未來新興旗艦技術(shù)項(xiàng)目”,設(shè)立專項(xiàng)研發(fā)計(jì)劃,未來10年內(nèi)撥出10億歐元經(jīng)費(fèi)。英國(guó)政府也投資建立國(guó)家石墨烯研究所(NGI),力圖使這種材料在未來幾十年里可以從實(shí)驗(yàn)室進(jìn)入生產(chǎn)線和市場(chǎng)。

石墨烯有望在諸多應(yīng)用領(lǐng)域中成為新一代器件,為了探尋石墨烯更廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域,還需繼續(xù)尋求更為優(yōu)異的石墨烯制備工藝,使其得到更好的應(yīng)用。   石墨烯雖然從合成和證實(shí)存在到今天只有短短十幾年的時(shí)間,但是已成為今年學(xué)者研究的熱點(diǎn)。其優(yōu)異的光學(xué)、電學(xué)、力學(xué)、熱學(xué)性質(zhì)促使研究人員不斷對(duì)其深入研究,隨著石墨烯的制備方法不斷被開發(fā),石墨烯必將在不久的將來被更廣泛的應(yīng)用到各領(lǐng)域中。 

石墨烯漿料的制備方法
(1)超聲波分散設(shè)備:非常適合實(shí)驗(yàn)室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散石墨烯,用于中、高粘度介質(zhì)時(shí)會(huì)受到限制,而且處理量比較小,不適合規(guī)模生產(chǎn)
(2)砂磨機(jī):能夠均勻的細(xì)化石墨烯的粒徑,但是工作時(shí)間長(zhǎng),而且容易破壞石墨烯的原子機(jī)構(gòu),耗材更換成本高,
(3)采用研磨分散機(jī)“先把抱團(tuán)粒徑打開,還原物料的原始粒徑,再把物料進(jìn)步細(xì)化剝離”可以高效的得到理想的石墨烯漿料

石墨烯高剪切研磨分散機(jī)是研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離(separating)、潤(rùn)濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。

石墨烯薄膜是除石墨烯粉體外的另一種重要形態(tài)。從石墨烯薄膜性能上看,具備完整的較強(qiáng)導(dǎo)電性、透光性、柔性及微電子等屬性。目前ITO的替代材料有金屬網(wǎng)格、碳納米管、納米線等,而其中熱門的候選為石墨烯??梢詫⑹┍∧ぷ鳛楦袘?yīng)層或者驅(qū)動(dòng)層,被使用在觸摸屏的模組里。

SGN石墨烯研磨設(shè)備采用高速研磨分散技術(shù),通過高轉(zhuǎn)速(高可達(dá)18000rpm)帶動(dòng)高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配GM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

 

     ?

 上海思峻的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說就是將SGN/思峻膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤。可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SGN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)18000rpm,是目前國(guó)產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

GMSD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

 設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí) 
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、 
電源選擇:380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz 
電機(jī)選配件:PTC 熱保護(hù)、降噪型 
均質(zhì)機(jī)材質(zhì):SUS304、SUS316L、SUS316Ti 
均質(zhì)機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車 
均質(zhì)機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理 
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍 
乳化機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器 
分散均質(zhì)機(jī)高剪切分散均質(zhì)機(jī),實(shí)驗(yàn)室均質(zhì)機(jī) 
應(yīng)用于:奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農(nóng)藥(除草劑、殺蟲劑)。

 

GMSD2000 研磨分散機(jī)參數(shù)表

SGN高剪切研磨分散機(jī)選型表:

 

標(biāo)準(zhǔn)流量(H2O)

輸出轉(zhuǎn)速

標(biāo)準(zhǔn)線速度

馬達(dá)功率

進(jìn)出口尺寸

 

型號(hào)

l/h

rpm

m/s

kW

 

型號(hào)

GMSD 2000/4

400

18000

51

4

DN25/DN15

GSMD 2000/4

GMSD 2000/5

1500

13500

51

7.5

DN40 /DN 32

GSMD 2000/5

GMSD 2000/10

4000

9257

51

22

DN50 / DN50

GSMD 2000/10

GMSD 2000/20

10000

3664

51

37

DN80 /DN 65

GSMD 2000/20

GMSD 2000/30

60000

1825

51

55

DN150 /DN 125

GSMD 2000/30

 

 公司有樣機(jī)可實(shí)驗(yàn)!,歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!SGN銷售會(huì)根據(jù)客戶具體需求做適當(dāng)?shù)脑O(shè)備選型,以及根據(jù)流量做型號(hào)相應(yīng)放大!

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